レーザー学会学術講演会第37回年次大会 セッション座長表
大会初日:1月7日(土)
会場名
会場K
会場P
会場Ⅰ
会場Ⅱ
会場Ⅲ
会場Ⅳ
会場Ⅴ
会場Ⅵ
会場Ⅶ
会場Ⅷ
部屋番号
工業会館
スタジオ
K407
K401
K402
K405
K507
K501
K502
K505
席数
100
315
176
108
126
60
178
108
126
61
1
月
7
日
(土)
9:00-9:15
9:15-9:30
9:30-9:45
9:45-10:00
10:00-10:15
10:15-10:30
10:30-10:45
E1.
光ファイバセンサ
座長:和田健司(大阪府大)
F1.
テラヘルツ・エネルギー応用材料
座長:冨士田誠之
(大阪大)
D1.
レーザー応用プロセス1
座長:中野人志(近畿大)
G1.
光通信技術1
座長:岡村康弘(徳島大)
B1.
テラヘルツ波発生
座長:竹家啓
(名古屋大)
I1.
光伝送路とバイオ応用
座長:橋本守
(大阪大)
H1.
ホログラフィ
座長:堀崎遼一(大阪大)
10:45-11:00
11:00-11:15
11:15-11:30
11:30-11:45
11:45-12:00
12:00-12:15
12:15-12:30
12:30-12:45
12:45-13:00
*光学技研
*AKiTech LEO
13:00-13:15
E2.
イメージング・光音響
座長:水谷康弘(大阪大)
F2.
半導体レーザー・位相制御デバイス
前半
(13:00~14:00)
座長:石川史太郎(愛媛大)
後半
(14:00~15:00)
座長:吉岡宏晃 (九州大学)
D2.
レーザー応用プロセス2
座長:岡本康寛(岡山大)
S3.
電力・公共インフラの維持・保全に向けたレーザー利用
前半
(13:00~14:30)
座長:出口祥啓
(徳島大)
後半
(14:45~15:45)
藤井隆
(電中研)
*光学技研
C1.
診断・計測
座長:難波慎一(広島大)
I2.
分光イメージング
座長:浪田健
(京都大)
13:15-13:30
B2.
超高速レーザー1
座長:高橋栄次(理研)
H2.
情報フォトニクス
座長:宮崎大介
(大阪市立大)
13:30-13:45
13:45-14:00
14:00-14:15
14:15-14:30
14:30-14:45
14:45-15:00
15:00-15:15
D3.
レーザー熱加工
座長:牧村哲也(筑波大)
S6.
ImPACTプログラムにおけるパワーレーザーの開発と応用展開
座長:中山通雄
(JST/ImPACT)
H3.
ディスプレイ
座長:重村幸治
(NLTテクノロジ)
15:15-15:30
E3.
光周波数コム計測
座長:井手口拓郎
(東京大)
B3.
超高速レーザー2
座長:白川晃
(電通大)
I3.
生物顕微鏡
座長:石原美弥(防衛医大)
15:30-15:45
F3.
ナノフォトニクス
座長:野崎謙伍(NTT)
15:45-16:00
16:00-16:15
G2.
光通信技術2
座長:丸田章博(大阪大)
16:15-16:30
16:30-16:45
*三菱電線工業
16:45-17:00
17:00-17:15
17:15-17:30
17:30-17:45
*:企業広告発表(5分間)
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大会ニ日目:1月8日(日)
会場名
会場K
会場P
会場Ⅰ
会場Ⅱ
会場Ⅲ
会場Ⅳ
会場Ⅴ
会場Ⅵ
会場Ⅶ
会場Ⅷ
部屋番号
工業会館
スタジオ
K407
K401
K402
K405
K507
K501
K502
K505
席数
100
315
176
108
126
60
178
108
126
61
1
月
8
日
(日)
9:00-9:15
E4.
リモートセンシング1
座長:染川智弘(レーザー総研)
S2.
光コムが切り拓く知的光計測
前半
(9:00~10:30)
座長:早崎芳夫(宇都宮大)
後半
(10:45~12:15)
座長:石橋爾:子(ネオアーク)
D4.
微粒子1
座長:西哲平
(豊田中研)
G3.
光通信デバイス
座長:諸橋功
(情報通信研究機構)
B4.
半導体レーザー
座長:本越伸二(レーザー総研)
C2.
X線源
座長:佐野孝好(大阪大)
S7.
光音響(光超音波)イメージングの現状と未来
半
(9:00~11:00)
座長:椎名毅
(京大)
後半
(11:15~12:45)
座長:山岡禎久(佐賀大)
S4.
ナチュラルコンピューティングとレーザーカオス
前半
(9:00~10:30)
座長:桒島史欣(福井工大)
後半
(10:45~12:15)
座長:磯島隆史(理研)
9:15-9:30
9:30-9:45
9:45-10:00
10:00-10:15
10:15-10:30
10:30-10:45
10:45-11:00
E5.
リモートセンシング2・ガス計測
座長;前田佳伸(近畿大)
D5.
微粒子2
座長:辻剛志
(島根大)
B5.
波長変換・非線形光学
座長;竹家啓
(名古屋大)
C3.
レーザー応用
座長:森芳孝
(光産業創成大)
11:00-11:15
G4.
光ファイバ無線技術
座長:赤羽浩一(情報通信研究機構)
11:15-11:30
11:30-11:45
11:45-12:00
12:00-12:15
*光学技研
12:15-12:30
12:30-12:45
12:45-13:00
*光学技研
*三菱電線工業
13:00-13:15
E6.
リモートセンシング3・分光計測
座長:山口滋
(東海大)
B6.
レーザー材料
座長:佐藤庸一(分子研)
13:15-13:30
F4.
超高速光デバイス・現象
座長:高橋和
(大阪府大)
D6.
プロセス基礎・モニタリング
座長:中村大輔(九州大)
G5.
光通信技術3
座長:岩下克
(高知工科大)
C4.
レーザー核融合・高強度場物理1
座長:森道昭
(QST)
A1.
量子光学・量子物性
座長:近藤久雄(愛媛大)
13:30-13:45
13:45-14:00
I4.
光音響イメージング
座長:田中智彦(日立)
14:00-14:15
14:15-14:30
14:30-14:45
14:45-15:00
15:00-17:00
公開特別特別講演(特別会場 徳島大学 理工学部共通講義棟6F スタジオ)
座長:原口雅宣
1. 「InGaN半導体レーザーとその新しい応用」 長濱慎一(日亜化学工業株式会社 第二部門 LD事業統括部 LD開発部 部長)
2. 「神山プロジェクト ~創造的過疎から考える地方創生~」 大南信也(NPO法人 グリーンバレー理事長)
17:00-18:00
18:00-20:00
懇親会(懇親会場 生協食堂2F「ダイニングきらら」)
*:企業広告発表(5分間)
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大会三日目:1月9日(月)
会場名
会場K
会場P
会場Ⅰ
会場Ⅱ
会場Ⅲ
会場Ⅳ
会場Ⅴ
会場Ⅵ
会場Ⅶ
会場Ⅷ
部屋番号
工業会館
スタジオ
K407
K401
K402
K405
K507
K501
K502
K505
席数
100
315
176
108
126
60
178
108
126
61
1
月
9
日
(月)
9:00-9:15
E7.
テラヘルツ計測
座長;紀和利彦(岡山大)
S5.
高出力ファイバーレーザーの進展
前半
(9:00~10:30)
座長:西澤典彦
(名古屋大)
後半
(10:45~12:15)
白川晃
(電通大)
D7.
マイクロプロセス
座長:池上浩
(九州大)
B7.
固体レーザー1
座長:庄司一郎(中央大)
C5.
レーザー核融合・高強度場物理2
座長:犬伏雄一(JASRI)
I5.
OCT
座長:松浦祐司(東北大)
A2.
超高時間・周波数分解分光
座長:足立俊輔(京都大)
9:15-9:30
9:30-9:45
9:45-10:00
10:00-10:15
10:15-10:30
10:30-10:45
10:45-11:00
E8.
光計測1
座長:早崎芳夫(宇都宮大)
D8.
薄膜形成
座長:溝尻瑞枝(名古屋大)
B8.
固体レーザー2
座長:吉岡宏晃(九州大)
C6.
粒子加速・相対論的電磁場応用
座長:小瀧秀行(QST)
I6.
医科・歯科応用
座長:原田義規(京都府立医大)
A3.
新規時空間分光・光源
座長:大舘暁
(ニコン)
11:00-11:15
11:15-11:30
11:30-11:45
11:45-12:00
12:00-12:15
*光学技研
12:15-12:30
*三菱電線工業
12:30-12:45
12:45-13:00
13:00-13:15
E9.
光計測2
座長:原口雅宣(徳島大)
*光学技研
13:15-13:30
D9.
表面改質1
座長:大家利彦(産総研)
B9.
ファイバーレーザー
座長:藤本靖
(大阪大)
A4.
レーザー光化学反応
座長:石川善恵(産総研)
13:30-13:45
公開S1.
光・レーザーの安全・安心シンポジウム
座長:橋新裕一(近畿大)
13:45-14:00
14:00-14:15
14:15-14:30
14:30-14:45
14:45-15:00
15:00-15:15
15:15-15:30
D10.
表面改質2
座長:塚本雅裕(大阪大)
B10.
コヒーレントビーム結合
座長:島研介
(フジクラ)
15:30-15:45
15:45-16:00
16:00-16:15
16:15-16:30
16:30-16:45
*:企業広告発表(5分間)
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大会会場への交通案内
【アクセスマップⅠ】
【アクセスマップⅡ】
第37回年次大会 会場平面図
【会場:共通講義棟4F,5F,6F】(受付:5F 西側エレベータ前)
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